تم تنفيذه في إطار IRDEP ، معهد البحث والتطوير للطاقة الكهروضوئية ، يهدف مشروع CISEL الذي يجمع EDF و CNRS و ENSCP ، المدرسة الوطنية للكيمياء في باريس ، إلى تطوير تقنية وحدة كهروضوئية بتكلفة / أداء 1 يورو لكل ذروة واط.
في حين أن 99٪ من السوق الكهروضوئية مشغولة بأنظمة قائمة على السيليكون (بلورية أو غير متبلورة) ، يعتمد مشروع CISEL على عملية ترسيب المادة الفعالة على أساس رابطة الدول المستقلة (النحاس ، الإنديوم ، السيلينيوم) ، أي الممتص الذي يحول الضوء إلى كهرباء ، مباشرة على طبقة زجاجية تجمع بين ملامس معدني ، الموليبدينوم ، السيلنيوم. في الواقع ، ما يسمى بتقنيات "الطبقة الرقيقة" موجودة منذ عدة سنوات ، وحتى لو كانت أقل كفاءة من حيث الكفاءة الكهروضوئية ، فإن الكسب في المواد الخام بترتيب 2 ميكرون متر بدلاً من 200 إلى 100 ميكرومتر ، يشكل أحد الأصول. ومع ذلك ، فهم يستخدمون ما يسمى بعمليات تصنيع الألواح "الفراغية" من نوع التبخر المشترك أو التبخر ، والتي تبين أنها باهظة الثمن نسبيًا والتي ، في نهاية المطاف ، لا تخلق انقطاعًا اقتصاديًا مقارنة بالأنظمة القائمة على السيليكون.